廢氣進入設備后，首先通過高能離子區域，廢氣分子及空氣被高能離子轟擊，廢氣分子被轟擊為小分子及CO₂和水，空氣分子中的氧氣及水分子被轟擊后轉變為臭氧、羥基自由基等活性氧分子，這些活性氧分子繼續氧化廢氣分子為易降解的小分子有機物或CO₂和水。之后廢氣分子進入光催化氧化區域，UV燈照射TIO2催化網，產生光子，與空氣反應產生具有強氧化性的羥基自由基和臭氧等活性氧分子，廢氣分子被徹底氧化廢氣分子為CO2和水。最后剩余的廢氣分子被活性炭吸附捕捉去除。

1、 高能離子工作原理

高能離子體是繼固態、液態、氣態之后的物質的第四態，當外加電壓達到氣體的著火電壓時，氣體被擊穿，產生包括電子、各種離子、原子和自由基在內的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現低溫狀態，所以稱為高能離子體。高能離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內發生分解，并發生后續的各種反應以達到分解污染物的目的。

在“高能離子工業廢氣凈化模塊”系列產品是利用產生的高能高能離子激活、電離、裂解廢氣中的各種成份，從而發生一 系列復雜的化學反應，將有害物轉化為潔凈的無害的物質達標排放至大自然。
氣體經過高能離子處理裝置的反應器區域時，高能電子和自由基強氧化等多重作用下，氣體中的有機物分子鏈被斷開，發生一系列復雜的氧化還原反應，生成 CO2、H2O 等無害物質，正負離子可以清新空氣。另外，借助高能離子體中的離子與物體的凝聚作用，可以對有機廢氣中小至亞微米級的細微顆粒物（0.1-3 微米）進行有效的收集去除。
    廢氣組分去除過程如下：

過程一：高能電子的直接轟擊

過程二：O原子或臭氧的氧化 
           O₂+e→2O
? 過程三：OH自由基的氧化
            H₂O+e→OH+H
            H₂O+O→2OH
            H+O₂→OH+O
    過程四：分子碎片+氧氣的反應

2、 光催化氧化工作原理

光催化是利用二氧化鈦（TiO2）作為催化劑的光催化過程，反應條件溫和，光解迅速，產物為二氧化碳（CO2）和水（H2O）或其它，而且適用范圍廣，包括烴、醇、醛、酮、氨等有機物，都能通過二氧化鈦光催化清除。其機理主要是光催化劑二氧化鈦吸收光子，與周圍的水和氧氣發生作用，結合生成羥基自由基(·OH)和活性氧物質（·O，H2O2），其中羥基自由基(·OH)是活性高，氧化性強，能迅速有效地分解揮發性有機物，再加上其它活性氧物質(·O，H2O2)的協同作用，效果更為明顯。

光催化氧化原理圖

不同類型有機物的光催化降解

3、 活性炭工作原理

活性炭的吸附可分為物理吸附和化學吸附。

1） 物理吸附

主要發生在活性炭去除氣相中雜質的過程中?；钚蕴康亩嗫捉Y構提供了大量的表面積，從而使其非常容易達到吸收收集雜質的目的。就象磁力一樣，所有的分子之間都具有相互引力。正因為如此，活性炭孔壁上的大量的分子可以產生強大的引力，從而達到將介質中的雜質吸引到孔徑中的目的。

2）化學吸附

除了物理吸附之外，化學反應也經常發生在活性炭的表面?；钚蕴坎粌H含碳，而且在其表面含有少量的化學結合、功能團形式的氧和氫，例如羧基、羥基、酚類、內脂類、醌類、醚類等。這些表面上含有地氧化物或絡合物可以與被吸附的物質發生化學反應，從而與被吸附物質結合聚集到活性炭的表面。 

活性炭的吸附正是上述二種吸附綜合作用的結果。

待凈化的氣體進入箱式活性碳吸附裝置進行廢氣處理，活性炭依靠自身獨特的空隙結構，內部孔隙結構發達、比表面積大、吸附能力強，使其具有強大的吸附功能，另外分子之間存在范德華力，當一個分子被活性炭內孔捕捉進入到活性炭孔隙中后，會導致更多分子不斷被吸引，直至孔隙飽和，因此臭氣進入該裝置后，廢氣分子被活性炭吸附床吸附，氣體從而得到凈化。

1）主要針對含有揮發性有機物的氣體；

2）可在室溫下與催化劑反應，無需加熱，極大地節約了能源；

3）介質阻擋放電產生高能電子，高能離子體密度大，幾乎可以和所有的異味組分反應，無二次污染；

4）反應速度快，氣體通過反應區的速度達到3-15米/秒，即達到很好的處理效果；

5）氣體通過部分采用防腐材料，電極與廢氣不直接接觸，不會產生設備腐蝕問題；

6）自動化程度高，操作簡便，啟?？?，隨用隨開；

7）三級處理，處理效果穩定。

化工行業

噴漆行業

印刷行業

其他行業中低濃度有機廢氣